Chemical and Physical Effects of the Carrier Gas on the Atmospheric Pressure PECVD of Fluorinated Precursors
Effets chimiques et physiques du gaz porteur utilisé en PECVD sur des précurseurs fluorés à pression atmosphérique
Résumé
The atmospheric pressure PECVD deposition and texturization of hydrophobic coatings using liquid fluorinated C6F12 and C6F14 precursors are investigated. The effect of the carrier gas (argon and helium) is discussed in terms of the behavior of the gas phase and of the characteristics of the deposited film. Mass spectrom-etry measurements indicate that the fragmentation is higher with argon while helium reacts very easily with oxygen impurities leading to the formation of CxFyOz compounds. These observations are consistent with the chemical composition of the films determined by XPS and the variation in the deposition rate. Moreover, the streamers present in the argon discharge affect the morphology of the surface by increasing the roughness, which leads to the increase in the hydrophobicity of the coatings.
Le dépôt PECVD à pression atmosphérique et la texturation de revêtements hydrophobes à l'aide de précurseurs liquides fluorés C6F12 et C6F14 sont étudiés. L'effet du gaz porteur (argon et hélium) est discuté en termes de comportement de la phase gazeuse et des caractéristiques du film déposé. Les mesures par spectrométrie de masse indiquent que la fragmentation est plus importante avec l'argon, tandis que l'hélium réagit très facilement avec les impuretés d'oxygène, ce qui conduit à la formation de composés CxFyOz. Ces observations sont cohérentes avec la composition chimique des films déterminée par XPS et la variation de la vitesse de dépôt. De plus, les streamers présents dans la décharge d'argon affectent la morphologie de la surface en augmentant la rugosité, ce qui conduit à l'augmentation de l'hydrophobicité des revêtements.
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Domaine public
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