Structure of nickel thin films electrodeposited on n-GaAs single crystals - Sorbonne Université Access content directly
Journal Articles Microscopy, Microanalysis, Microstructures Year : 1992

Structure of nickel thin films electrodeposited on n-GaAs single crystals

Abstract

Current versus time transients obtained by cathodic potential pulses, during nickel electrodeposition on n-GaAs single crystals, present an unusual, shape. The two maxima of the cathodic current are interpreted by a Stranski-Krastanov mechanism. TEM and RHEED observations of the nickel electrodeposits show the occurence of a two steps 2D/3D epitaxial growth with a multiple positioning of nuclei inducing the formation of specific twin arrangements.
Les courbes transitoires courant-temps résultant d'impulsions cathodiques, durant le dépôt électrolytique du nickel sur des monocristaux de GaAs, présentent une forme peu commune. On interprète les deux maxima du courant cathodique par un mécanisme de Stranski-Krastanov. Les observations en microscopie électronique par transmission et diffraction de surface des dépôts de nickel révèlent une croissance épitaxique en deux étapes, bidimensionnelle puis tridimensionnelle, donnant lieu à la formation d'arrangements spécifiques de macles.

Dates and versions

hal-04549817 , version 1 (17-04-2024)

Identifiers

Cite

Luc Allemand, Michel Froment, Georges Maurin, Eliane Souteyrand. Structure of nickel thin films electrodeposited on n-GaAs single crystals. Microscopy, Microanalysis, Microstructures, 1992, 3 (5), pp.401-413. ⟨10.1051/mmm:0199200305040100⟩. ⟨hal-04549817⟩
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