The Mechanism of the Anodic Oxidation of Silicon in Acidic Fluoride Solutions Revisited - Sorbonne Université
Article Dans Une Revue Berichte der Bunsengesellschaft für physikalische Chemie Année : 1993

The Mechanism of the Anodic Oxidation of Silicon in Acidic Fluoride Solutions Revisited

H. Gerischer
  • Fonction : Auteur
Philippe Allongue
  • Fonction : Auteur
Laboratoire Interfaces et Systèmes Electrochimiques
V. Costa Kieling
  • Fonction : Auteur

Résumé

The present experience of the electrochemical dissolution of silicon and previous assumptions upon the mechanism are briefly reviewed. A new model is developed which explains how the coverage of the surface by hydrogen can be maintained in spite of the continuous anodic dissolution.

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Véronique Martin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-04523076

Soumis le : mercredi 27 mars 2024-11:20:34

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:11

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Dates et versions

hal-04523076 , version 1 (27-03-2024)

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Citer

H. Gerischer, Philippe Allongue, V. Costa Kieling. The Mechanism of the Anodic Oxidation of Silicon in Acidic Fluoride Solutions Revisited. Berichte der Bunsengesellschaft für physikalische Chemie, 1993, 97 (6), pp.753-757. ⟨10.1002/bbpc.19930970602⟩. ⟨hal-04523076⟩

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