Génie chimique : Approche hydrodynamique de la morphologie de dépôts électrolytiques de cuivre en tampon acétate sur une électrode à disque tournant en platine ou en cuivre - Sorbonne Université
Journal Articles Comptes rendus hebdomadaires des séances de l’Académie des sciences. Série C, Sciences chimiques Year : 1981

Génie chimique : Approche hydrodynamique de la morphologie de dépôts électrolytiques de cuivre en tampon acétate sur une électrode à disque tournant en platine ou en cuivre

Abstract

By using a rotating disc electrode, in a specific case of copper deposits, under diffusional control, we highlight a partial blocking of the substrate against the diffusion of Cu2+ ions. This blockage, which is not very sensitive to the contribution to the current of the hydrogen release reaction, is related to the morphology observed.
Par l'utilisation d'une électrode à disque tournant, dans un cas précis de dépôts de cuivre, sous contrôle diffusionnel, nous mettons en évidence un blocage partiel du substrat vis-a-vis de la diffusion des ions Cu2+. Ce blocage qui est peu sensible à la contribution au courant de la réaction de dégagement de l'hydrogène est relié à la morphologie observée.
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Dates and versions

hal-04741589 , version 1 (17-10-2024)

Identifiers

  • HAL Id : hal-04741589 , version 1

Cite

Adrien Caprani, Maurice Nakache, Jean-Luc Dimicoli, Luc Beaunier. Génie chimique : Approche hydrodynamique de la morphologie de dépôts électrolytiques de cuivre en tampon acétate sur une électrode à disque tournant en platine ou en cuivre. Comptes rendus hebdomadaires des séances de l’Académie des sciences. Série C, Sciences chimiques, 1981, 292, pp.521-524. ⟨hal-04741589⟩
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