Génie chimique : Approche hydrodynamique de la morphologie de dépôts électrolytiques de cuivre en tampon acétate sur une électrode à disque tournant en platine ou en cuivre
Abstract
By using a rotating disc electrode, in a specific case of copper deposits, under diffusional control, we highlight a partial blocking of the substrate against the diffusion of Cu2+ ions. This blockage, which is not very sensitive to the contribution to the current of the hydrogen release reaction, is related to the morphology observed.
Par l'utilisation d'une électrode à disque tournant, dans un cas précis de dépôts de cuivre, sous contrôle diffusionnel, nous mettons en évidence un blocage partiel du substrat vis-a-vis de la diffusion des ions Cu2+. Ce blocage qui est peu sensible à la contribution au courant de la réaction de dégagement de l'hydrogène est relié à la morphologie observée.